Ultrakurzpulslaser-Applikationslabor

UKP Anlage 1UKP Anlage2

Anwendung
Durch die Verwendung von sehr kurzen Laserpulsen (typisch < 10 ps) werden einzigartige Anwendungsfelder erschlossen. In den Laserlaboren der EAH Jena stehen sowohl industrielle Anlagen als auch experimentelle Laboraufbauten zur Umsetzung von Applikationen, Dienstleistungen und Forschung zur Verfügung. Die sich ergebenden Anwendungsfelder erstrecken sich von Optiktechnologie und Feinwerktechnik über Medizintechnik und Biotechnologie hin zu Automotive und Luft- und Raumfahrt. Das flexible Werkzeug Laserstrahl ermöglicht durch hohe Spitzenintensitäten und kurze Pulse eine präzise und nahezu athermische Bearbeitung (Abtragen, Strukturieren, Markieren, Bohren) von technischen Oberflächen. Zudem erschließen sich immer neue Anwendungen z.B. in der additiven Fertigung (kurz UKP-SLS). Dabei wird über die Akkumulation von Wärme Pulvermaterial sehr präzise aufgeschmolzen, um dreidimensionale Bauteile aus Glas, Keramik oder Wolfram herzustellen.

UKP Anwendung1 UKP Anwendung2 UKP Anwendung3

 

Technische Daten der Anlagen

  TruMicro 5050  Satsuma HP²  Compact 100  TruMicro 5250 
Hersteller Trumpf Amplitude Laser Active Fiber Systems Trumpf
Wellenlänge [nm] 1030 1030, 515, 343 1030, 343 515
Mittlere Leistung [W] 50 20 @ IR 80 @ IR 30
Pulsenergie [µJ] 250 40 @ IR 200 @ IR 75
Repetitionsrate [kHz] 200 2000 32000 400
Pulsdauer 7 ps 10 ps - 300 fs 10 ps - 300 fs 7 ps


weitere Ausstattung: CAD/CAM, Galvoscanner von Scanlab bis 5m/s, F-Theta-Objektiv verschiedener Brennweiten,
Mikroskopobjektiv bis 2 µm Spotgröße, Beobachtungskameras, mechanische Taster, Absaugung, Düsen, Präzisions-
positioniersysteme verschiedener Hersteller, strahlformende Elemente (DOE, SLM, …) und die dazugehörige Messtechnik   


Gemeinsam mit dem Günter-Köhler-Institut für Fügetechnik und Werkstoffprüfung Jena und dem Institut für angewandte Physik der Friedrich Schiller Universität Jena sind wir im UKP-Anwendungszentrum organisiert.

foto ukp 1150x500 klein

Für Anfragen stehen wir Ihnen sehr gerne zur Verfügung:

Arbeitsgruppenleiter Prof. Dr. Jens Bliedtner
Gruppenleiter UKP-Laserstrahlbearbeitung Michael Seiler, M.Eng.


Gefördert durch:

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