Anwendung
Die UKP-Laseranlage wird für die industrienahe Forschung und Entwicklung an der EAH Jena eingesetzt. Dabei werden beispielsweise Applikationen, Machbarkeitsstudien und technologische Entwicklungen zur Mikrostrukturierung und Oberflächenmodifizierung in den Bereichen Optiktechnologie, Feinwerktechnik, Medizintechnik und Fertigungstechnik durchgeführt.
Weiterhin werden Studierende in laufende Projektthemen integriert und mit eigenverantwortlichen Aufgabenstellungen in Abschlussarbeiten an der Systemtechnik ausgebildet.
Technische Daten
Laser – Satsuma HP2 (Amplitude Systems): | |
Mittlere Leistung | 20 W |
Wellenlänge | 1030 nm |
Pulsdauer | 400 fs - 10 ps |
Max. Pulsenergie | 40 µJ |
Intensität | 140 TW/cm2 |
Repetitionsrate | 1 - 2000 kHz |
Strahlqualität TEM00, M2 | <1,2 |
Rohstrahldurchmesser | 1,5 mm |
integrierter Frequenzkonverter für 1. und 2. Harmonische | |
Konversionseffizienz | > 45 % @ 515 nm; > 25 % @ 343 nm |
Scanner / Optiken – 2 x Intelliscan III 14 (RTC 5) | |
Scangeschwindigkeit | 2 m/s |
Brennweiten (F-Theta) | IR (100 mm / 45 mm), VIS (100 mm), UV (100mm) |
Positioniersystem auf optischem Tisch | |
Owis Z-Achse Spindeltrieb Limes | 100 mm |
Gefördert durch: